1檢出限
為某特定分析方法在給定的置信度內(nèi)可從樣品中檢出待測(cè)物質(zhì)的最小濃度或最小量。所謂“檢出”是指定性檢出,即判定樣品中存有濃度高于空白的待測(cè)物質(zhì)。
檢出限除了與分析中所用試劑和水的空白有關(guān)外,還與儀器的穩(wěn)定性及噪聲水平有關(guān)。在靈敏度計(jì)算中沒有明確噪聲的大小,因而操作者可以將檢測(cè)器的輸出信號(hào),通過放大器放到足夠大,從而使靈敏度相當(dāng)高。顯然這是不妥的,必須考慮噪聲這一參數(shù),將產(chǎn)生兩倍噪聲信號(hào)時(shí),單位體積載氣或單位時(shí)間內(nèi)進(jìn)入檢測(cè)器的組分量稱為檢出限。
則:
D=2N/S
式中:
N——噪聲(mV或A);
S——檢測(cè)器靈敏度;
D——檢出限,其單位隨S不同也有三種:
Dg=2N/Sg,單位為mg/ml
Dv=2N/Sv,單位為ml/ml
Dt=2N/St,單位為g/s
有時(shí)也用最小檢測(cè)量(MDA)或最小檢測(cè)濃度(MDC)作為檢測(cè)限。它們分別是產(chǎn)生兩倍噪聲信號(hào)時(shí),進(jìn)入檢測(cè)器的物質(zhì)量(g)或濃度(mg/ml)。
不少高靈敏度檢測(cè)器,如FID、NPD、ECD等往往用檢出限表示檢測(cè)器的性能。
靈敏度和檢出限是兩個(gè)從不同角度表示檢測(cè)器對(duì)測(cè)定物質(zhì)敏感程度的指標(biāo),前者越高、后者越低,說明檢測(cè)器性能越好。
從而可見,測(cè)量方法的檢出限于分析空白值、精密度、靈敏度密切相關(guān)。是分析方法的一個(gè)綜合性的重要計(jì)量參數(shù)。
2檢出限的計(jì)算方法
1)在《全球環(huán)境監(jiān)測(cè)系統(tǒng)水監(jiān)測(cè)操作指南》中規(guī)定:給定置信水平為95%時(shí),樣品測(cè)定值與零濃度樣品的測(cè)定值有顯著性差異即為檢出限(D.L)。這里的零濃度樣品是不含待測(cè)物質(zhì)的樣品。
D.L=4.6σ
式中:
σ—空白平行測(cè)定(批內(nèi))標(biāo)準(zhǔn)偏差(重復(fù)測(cè)定20次以上)。
2)國(guó)際純粹和應(yīng)用化學(xué)聯(lián)合會(huì)(IUPAC)對(duì)分析方法的檢出限D(zhuǎn).L作如下規(guī)定。
在與分析實(shí)際樣品完全相同的條件下,做不加入被測(cè)組分的重復(fù)測(cè)定(即空白試驗(yàn)),測(cè)定次數(shù)盡可能多(試驗(yàn)次數(shù)至少為20次)。
算出空白觀測(cè)值的平均值Xb和標(biāo)準(zhǔn)偏差Sb。在一定置信概率下,被檢出的最小測(cè)量值XL以下式確定:
XL=Xb+K’Sb
式中:
Xb——空白多次測(cè)得信號(hào)的平均值;
Sb——空白多次測(cè)得信息的標(biāo)準(zhǔn)偏差;
K’——根據(jù)一定置信水平確定的系數(shù)。
與XL-Xb(即K’Sb)相應(yīng)的濃度或量即為檢出限:
D.L=XL-Xb/K=k’Sb/K
式中:
k——方法的靈敏度(即校準(zhǔn)曲線的斜率)。為了評(píng)估Xb和Sb,實(shí)驗(yàn)次數(shù)必須至少20次。
1975年,IUPAC建議對(duì)光譜化學(xué)分析法取k’=3。由于低濃度水平的測(cè)量誤差可能不遵從正態(tài)分布,且空白的測(cè)定次數(shù)有限,因而與k’=3相應(yīng)的置信水平大約為90%。
此外,尚有將K’取為4、4.6、5及6的建議。
3)美國(guó)EPASW-846中規(guī)定方法檢出限:MDL=3.143δ(δ:重復(fù)測(cè)定7次空白平行(批內(nèi))標(biāo)準(zhǔn)偏差)。
4)在某些分光光度法中,以扣除空白值后的與0.01吸光度相對(duì)應(yīng)的濃度值為檢出限。
5)氣相色譜分析的最小檢測(cè)量系指檢測(cè)器恰能產(chǎn)生與噪聲相區(qū)別的響應(yīng)信號(hào)時(shí)所需進(jìn)入色譜柱的物質(zhì)的最小量,一般認(rèn)為恰能辨別的響應(yīng)信號(hào),最小應(yīng)為噪聲的兩倍。最小檢測(cè)濃度系指最小檢測(cè)量與進(jìn)樣量(體積)之比。
6)某些離子選擇電極法規(guī)定:當(dāng)校準(zhǔn)曲線的直線部分外延的延長(zhǎng)線與通過空白電位且平行于濃度軸的直線相交時(shí),其交點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的濃度值及為該離子選擇電極法的檢出限。
光度分析中,雖然吸光度最小測(cè)讀值為0.001,靈敏度也以A=0.001所相應(yīng)的被測(cè)物濃度表示,但實(shí)際上慣常以A=0.05相應(yīng)的被測(cè)物濃度作為有充分置信度的測(cè)定限,即最小能夠可靠測(cè)定的濃度。這是因?yàn),在吸光度A接近零的情況下,測(cè)定值與真實(shí)值之比即相對(duì)誤差趨向無限大。
其次,由于比色皿的成對(duì)性不易做到完全匹配,尤其是使用已久的比色皿的成對(duì)性不易保證,因此吸光度很小的測(cè)量值在不同操作者、不同試驗(yàn)室之間常會(huì)不一致,除非操作者很有經(jīng)驗(yàn),十分注意比色皿成對(duì)性對(duì)測(cè)量的影響,并在每次測(cè)量時(shí)予以試驗(yàn)校正。
測(cè)定限
測(cè)定限為定量范圍的兩端,分為測(cè)定上限與測(cè)定下限。
1測(cè)定下限
在測(cè)定誤差能滿足預(yù)定要求的前提下,用特定方法能準(zhǔn)確地定量測(cè)定待測(cè)物質(zhì)的最小濃度或量,稱為該方法的測(cè)定下限。
測(cè)定下限反映出分析方法能準(zhǔn)確地定量測(cè)定低濃度水平待測(cè)物質(zhì)的極限可能性。在沒有(或消除了)系統(tǒng)誤差的前提下,他受精密度要求的限制(精密度通常以相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差表示)。分析方法的精密度要求越高,測(cè)定下限高于檢出限越多。
美國(guó)EPASW-846中規(guī)定4MDL為定量下限(RQL),即4倍檢出限濃度作為測(cè)定下限,其測(cè)定值的相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差約為10%。日本JIS規(guī)定定量下限為10倍的MDL。
2測(cè)定上限
在限定誤差能滿足預(yù)定要求的前提下,用特定方法能夠準(zhǔn)確地定量測(cè)定待測(cè)物質(zhì)的最大濃度或量,稱為該方法的測(cè)定上限。
對(duì)沒有(或消除了)系統(tǒng)誤差的特定分析方法的精密度要求不同,測(cè)定上限也將不同。
測(cè)定限對(duì)于定量分析,進(jìn)一步計(jì)算才能得到與分析物有關(guān)的值(例如,各個(gè)結(jié)果的平均值)。因此,條件更加苛刻,所以測(cè)定限總是高于檢出限。
3檢測(cè)限有三種常用的表示方式
(1)儀器檢測(cè)下限
可檢測(cè)儀器的最小訊號(hào),通常用信噪比來表示,當(dāng)信號(hào)與噪聲之比大于等于3時(shí),相當(dāng)于信號(hào)強(qiáng)度的試樣濃度,定義為儀器檢測(cè)下限。
(2)方法檢測(cè)下限
即某方法可檢測(cè)的最低濃度。通常用低濃度曲線外推法可求的方法檢測(cè)下限。
(3)樣品檢測(cè)下限
即相對(duì)于空白可檢測(cè)的樣品最小含量。樣品檢測(cè)下限定義為:其信號(hào)等于測(cè)量空白溶液的信號(hào)的標(biāo)準(zhǔn)偏差的3倍時(shí)的濃度。
檢測(cè)下限是選擇分析方法的重要因素。樣品檢測(cè)下限不僅與方法檢測(cè)下限有關(guān),而且與空白樣品中空白含量以及空白波動(dòng)情況有關(guān)。只有當(dāng)空白含量為零時(shí),樣品檢測(cè)下限等于方法檢測(cè)下限。
然而,空白含量往往不等于零,空白大小受環(huán)境對(duì)樣品的污染,試劑純度、水質(zhì)純度、容器的質(zhì)地及操作等因素的影響。因此,由外推法可求得方法檢測(cè)下限可能很低,但由于空白含量的存在,以及空白含量的波動(dòng),樣品檢測(cè)下限可能要比方法檢測(cè)下限大得多。從實(shí)用中考慮,樣品檢測(cè)下限較為有用和切合實(shí)際。
最佳測(cè)定范圍
1最佳測(cè)定范圍(也稱有效測(cè)定范圍)
指在限定誤差能滿足預(yù)定要求的前提下,特定方法的測(cè)定下限至測(cè)定上限之間的濃度范圍。在此范圍內(nèi)能夠準(zhǔn)確地定量測(cè)定待測(cè)物質(zhì)的濃度或量。
最佳測(cè)定范圍應(yīng)小于方法的適應(yīng)范圍。對(duì)測(cè)量結(jié)果的精密度(通常以相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差表示)要求越高,相應(yīng)的最佳測(cè)定范圍越小。
2方法的線性范圍
方法的線性范圍是指信號(hào)與樣品濃度呈線性的工作曲線直線部分。通常把相當(dāng)于10倍空白的標(biāo)準(zhǔn)偏差相應(yīng)的濃度定為方法的線性范圍的定量檢測(cè)下限。取工作曲線中高濃度時(shí),彎曲處作為方法的線性范圍的定量檢測(cè)上限。
好的分析方法要有寬的線性范圍。有的分析方法線性范圍只有一個(gè)數(shù)量級(jí),有的分析方法線性范圍可達(dá)5~6個(gè)數(shù)量級(jí)。同一分析方法可用常量、微量、痕量的物質(zhì)分析。
校準(zhǔn)曲線
校準(zhǔn)曲線包括標(biāo)準(zhǔn)曲線和工作曲線,前者用標(biāo)準(zhǔn)溶液系列直接測(cè)量,沒有經(jīng)過預(yù)處理過程,這對(duì)于樣品往往造成較大誤差;而后者所使用的標(biāo)準(zhǔn)溶液經(jīng)過了與樣品相同的消解、凈化、測(cè)量等全過程。
凡應(yīng)用校準(zhǔn)曲線的分析方法,都是在樣品測(cè)得信號(hào)值后,從校準(zhǔn)曲線上查得其含量(或濃度)。因此,繪制準(zhǔn)確的校準(zhǔn)曲線,直接影響到樣品分析結(jié)果的準(zhǔn)確與否。此外,校準(zhǔn)曲線也確定了方法的測(cè)定范圍。
1校準(zhǔn)曲線的繪制
用一系列被測(cè)物標(biāo)準(zhǔn)溶液,按照標(biāo)準(zhǔn)方法規(guī)定的步驟,將被測(cè)物轉(zhuǎn)變?yōu)橛猩芤骸V苽浜玫臉?biāo)準(zhǔn)系列和空白,在方法選定的波長(zhǎng)下,測(cè)定吸光度。已被測(cè)物濃度為橫坐標(biāo),吸光度為縱坐標(biāo),繪制校準(zhǔn)曲線。
對(duì)標(biāo)準(zhǔn)系列,溶液以純?nèi)軇閰⒈冗M(jìn)行測(cè)量后,應(yīng)先作空白校正,然后繪制標(biāo)準(zhǔn)曲線。
標(biāo)準(zhǔn)溶液一般可直接測(cè)定,但如試樣的預(yù)處理較復(fù)雜致使污染或損失不可忽略時(shí),應(yīng)和試樣同樣處理后再測(cè)定。
校準(zhǔn)曲線的斜率常隨環(huán)境溫度、試劑批號(hào)和貯存時(shí)間等實(shí)驗(yàn)條件的改變而變動(dòng)。
因此,在測(cè)定試樣的同時(shí),繪制校準(zhǔn)曲線最為理想,否則應(yīng)在測(cè)定試樣的同時(shí),平行測(cè)定零濃度和中等濃度標(biāo)準(zhǔn)溶液各兩份,取均值相減后與原校準(zhǔn)曲線上的相應(yīng)點(diǎn)核對(duì),其相對(duì)差值根據(jù)方法精密度不得大于5%~10%,否則應(yīng)重新繪制校準(zhǔn)曲線。
2校準(zhǔn)曲線的檢驗(yàn)
1)線性檢驗(yàn):即檢驗(yàn)校準(zhǔn)曲線的精密度。對(duì)于以4~6個(gè)濃度單位所獲得的測(cè)量信號(hào)值繪制的校準(zhǔn)曲線,分光光度法一般要求其相關(guān)系數(shù) | r | ≥0.9990,否則應(yīng)找出原因并加以糾正,重新繪制合格的校準(zhǔn)曲線。
2)截距檢驗(yàn):即檢驗(yàn)校準(zhǔn)曲線的準(zhǔn)確度,在線性檢驗(yàn)合格的基礎(chǔ)上,對(duì)其進(jìn)行線性回歸,得出回歸方程y=a+bx ,然后將所得截距a與0作t檢驗(yàn),當(dāng)取95%置信水平,經(jīng)檢驗(yàn)無顯著性差異時(shí),a可做0處理,方程簡(jiǎn)化為y=bx,移項(xiàng)得x=y/b。在線性范圍內(nèi),可代替查閱校準(zhǔn)曲線,直接將樣品測(cè)量信號(hào)值經(jīng)空白校正后,計(jì)算出試樣濃度。
當(dāng)a與0有顯著性差異時(shí),表示校準(zhǔn)曲線的回歸方程計(jì)算結(jié)果準(zhǔn)確度不高,應(yīng)找出原因予以校正后,重新繪制校準(zhǔn)曲線并經(jīng)線性檢驗(yàn)合格。在計(jì)算回歸方程,經(jīng)截距檢驗(yàn)合格后投入使用。
回歸方程如不經(jīng)上述檢驗(yàn)和處理,就直接投入使用,必將給測(cè)定結(jié)果引入差值相當(dāng)于解決a的系統(tǒng)誤差。
3)斜率檢驗(yàn):即檢驗(yàn)分析方法的靈敏度,方法靈敏度是隨實(shí)驗(yàn)條件的變化而改變的。在完全相同的分析條件下,僅由于操作中的隨機(jī)誤差導(dǎo)致的斜率變化不應(yīng)超出一定的允許范圍,此范圍因分析方法的精度不同而異。例如,一般而言,分子吸收分光光度法要求其相對(duì)差值小于5%,而原子吸收分光光度法則要求其相對(duì)差值小于10%等等。
3校準(zhǔn)曲線的控制
被測(cè)物轉(zhuǎn)變?yōu)橛猩芤旱姆磻?yīng)稱為顯色反應(yīng)或發(fā)色反應(yīng)。顯色反應(yīng)的介質(zhì)PH條件、顯色劑用量、顯色反應(yīng)的時(shí)間和溫度、為消除共存物干擾而加入的掩蔽劑、甚至加試劑的順序,都要按照方法步驟的要求執(zhí)行。有時(shí),標(biāo)準(zhǔn)系列雖然不像實(shí)際試樣那樣組成復(fù)雜,但仍要求與試樣進(jìn)行同樣的處理步驟,以便控制校準(zhǔn)曲線上的數(shù)據(jù)點(diǎn)的空白、回收率等因素。
建立校準(zhǔn)曲線時(shí),測(cè)量吸光度的參比有兩種選擇。
第一種方法用純?nèi)軇┳鲄⒈龋瑑蓚(gè)比色皿都放溶劑時(shí),“樣品比色皿”的吸光度測(cè)定值為比色皿成對(duì)性校正值,此后所有樣品吸光度測(cè)定值都須扣除此值,進(jìn)行校正。然后,以純?nèi)軇閰⒈龋瑴y(cè)定空白及標(biāo)準(zhǔn)系列的吸光度,繪制校準(zhǔn)曲線。
第二種方法直接用空白為參比。當(dāng)兩個(gè)比色皿都放空白時(shí),測(cè)定比色皿成對(duì)性校正值,然后測(cè)定標(biāo)準(zhǔn)系列的吸光度,繪制校準(zhǔn)曲線。兩種方法得到的兩條校準(zhǔn)曲線互相平行,但第一種方法可測(cè)定空白的水平,后一種方法不能測(cè)定空白,理論上校準(zhǔn)曲線通過原點(diǎn)。若空白為零,兩條校準(zhǔn)曲線重合。無論用什么作參比,實(shí)樣測(cè)定時(shí)應(yīng)該使用與建立校準(zhǔn)曲線相同的比色皿和同樣的參比。
比色皿的成對(duì)性校正對(duì)于使用已久的比色皿是必要的,尤其是測(cè)量吸光度很小的樣品時(shí),校正可保證測(cè)量值的可靠性和重復(fù)性。
分析空白
一.分析空白的主要來源和控制措施
1環(huán)境對(duì)樣品的玷污
主要是由空氣中的污染氣體和沉降微粒引起的。普遍實(shí)驗(yàn)室中每立方米空氣中含有數(shù)百微克的微粒。這些微粒含有多種元素,因而可引起多種和痕量元素的玷污。來自環(huán)境的玷污不但顯著,而且變動(dòng)性大。應(yīng)采取局部或整個(gè)實(shí)驗(yàn)室的防塵與空氣凈化措施。
2試劑對(duì)樣品的玷污
試劑對(duì)樣品的玷污隨試劑用量而變化。對(duì)一定的試劑用量是恒定的。樣品處理過程中用量最多的是水和酸。
3器皿對(duì)樣品玷污
貯存、處理樣品所用的一切器皿,如燒杯、瓶子、過濾器、研缽等,由于其材質(zhì)不夠純或者未洗滌干凈均可能玷污樣品。在痕量分析中應(yīng)選用高純惰性材料制成的器皿,并運(yùn)用合適的清洗技術(shù)。聚四氟乙烯、透明的合成石英的高壓聚乙烯是比較合適的器皿材料。
4分析測(cè)試者對(duì)樣品的玷污
分析測(cè)試者用手觸摸樣品可引起多種元素的玷污;分析測(cè)試者的化妝品常常不知不覺地帶來許多元素的玷污;分析測(cè)試者使用的內(nèi)服和外用藥物也常常玷污樣品;以及分析測(cè)試者若不注意個(gè)人衛(wèi)生也會(huì)引起樣品的玷污。所以,分析測(cè)試者不但要具有正確熟練的操作技巧,而且要知道自身對(duì)樣品可能帶來什么玷污,以采取消除玷污的必要措施。
二.分析空白的監(jiān)測(cè)和空白值的扣除
空白值波動(dòng)較大,往往在百分之幾十,甚至百分之幾百的水平上波動(dòng)。因而痕量與超痕量分析中,扣除空白是比較困難的,也是不可靠的?煽坎⑿兄行У姆椒ㄊ前逊治隹瞻捉抵量梢院雎圆挥浀某潭,同時(shí)在分析過程中作空白的平行測(cè)定,以監(jiān)視分析過程。若分析空白明顯的超過正常值,則表明本次分析測(cè)定過程有嚴(yán)重的玷污,平行樣品的測(cè)定結(jié)果不可靠。
在分析空白主要來自試劑的玷污時(shí),空白值比較穩(wěn)定,若有必要,可以扣除空白值。為獲得可靠的空白值,應(yīng)進(jìn)行多次重復(fù)測(cè)定,算出空白值及其置信限:B ±t0.95(SB/n2)。
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